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等离子体刻蚀过程中有害气体净化的原理和方法

上传时间：2014-08-27 浏览量：21
【下载地址】 内容介绍

全部作者：黄光周 马国欣 于继荣 杨英杰 周仲浩 

文献出处：真空电子技术 年份：2003 期数：5

论文摘要：
叙述了等离子体刻蚀过程中产生的有害气体以及处理这些有害气体的原理和方法。对燃烧分解、化学中和、薄膜吸气、等离子体净化及脉冲电晕放电等作了简要的概述。指出等离子体净化和脉冲电晕放电是净化有害气体的较好方法

关键词：半导体 等离子体 有害气体 环境� � 

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